2.5D封裝在芯片和封裝基板之間引入了interposer層。這種interposer通常由硅或玻璃制成,包含硅通孔或玻璃通孔,在芯片之間實現高密度垂直連接和精細間距橫向布線。硅interposer提供出色的布線密度和精細間距連接,使其在高性能計算和GPU集成應用中得到廣泛部署。然而,硅interposer成本較高,并且由于體硅層的存在可能帶來散熱挑戰。帶有玻璃通孔的玻璃interposer已經成為有吸引力的替代方案,提供更低的射頻衰減、更好的機械性能,以及潛在的更低制造成本。
英特爾的嵌入式多芯片互連橋(EMIB)代表了另一種2.5D變體,將小型硅橋嵌入有機基板中,創建局部高帶寬互連,而無需在整個封裝上使用完整的interposer。這種方法在需要的地方提供出色的電氣性能,同時通過限制昂貴硅面積的使用來保持成本效益。在所有2.5D配置中,芯片保持在interposer表面上橫向放置,與標準2D方法相比最小化了互連長度,同時保持相對簡單的熱管理,因為芯片不會直接堆疊在彼此之上。
真正的3D集成采用根本不同的方法,通過垂直堆疊芯片,通過垂直互連創建直接的芯片到芯片連接。在這些系統中,光電子集成芯片可以作為具有類似硅通孔的垂直連接的interposer層,或者光電子芯片和驅動線路可以使用混合鍵合等先進技術直接正面對背面鍵合。這種架構實現了最短的互連長度和最低的插入損耗,直接轉化為能源效率和帶寬密度的改善。最近的3D堆疊CPO引擎演示已經實現了每秒多太比特的吞吐量,證明了垂直集成架構的技術可行性。
然而,3D集成引入了必須仔細管理的嚴重熱和機械挑戰。當高功率ASIC直接堆疊在熱敏感的光電子集成芯片上方時,來自ASIC的熱量會導致光學諧振器的波長漂移、激光器效率下降以及調制器性能不穩定。先進的熱管理策略變得必不可少,包括使用高導熱性的熱界面材料、金屬散熱片、熱電冷卻器,在某些情況下,還包括集成在interposer或基板內的微流體冷卻。